Micropol Model MC3 是一款专为透射电子显微镜（TEM）样品制备和金相学设计的紧凑型、电子控制精密研磨抛光设备。它通过机械臂带动样品在研磨碗底部进行半随机几何轨迹运动，实现高平整度的平面研磨、凹坑制备（Dimpling）、减薄和抛光。该设备广泛应用于纳米技术、半导体和材料科学研究领域。
关键技术参数：
l 电源输入：100–240 V / 50–60 Hz（全球通用宽电压，非仅限110V）
l 功率消耗：最大 85 W
l 设备尺寸：251 mm (长) × 210 mm (宽) × 181 mm (高)
l 样品载荷：0 – 5 N（机械式可调）
l 适用样品尺寸：最大 35 mm × 20 mm
l 移动质量：最大 150 g
l 定时器：1 – 3600 秒（电子可调，支持自动运行）
标准配置与配件：
研磨碗：4个平板塑料抛光碗；1套球面凹坑碗（含铜、铝、塑料衬里及空碗各1个）。
样品夹具：平板碗夹具1个，球面碗夹具1个。
测量工具：厚度测量套件（Thickness Measuring Kit）1套。
耗材启动包：包含砂纸、抛光布、金刚石抛光膏样品及热塑性石蜡。
主要应用：
1. TEM 样品制备：在离子束减薄前进行机械减薄和凹坑制备。
2. 材料科学：矿物学、冶金学、半导体晶圆的平面研磨与抛光。
3. 精密加工：适用于直径 3 mm 或更小的样品（使用专用夹具）。
常用耗材：
l 砂纸（300-800粒度）
l 抛光布（e.g. PELLON type）
l 研磨膏或者研磨悬浮液（钻石、Al2O3、 SiC），粒度1-10微米
l 凝固点低于135°C的热熔透明蜡，用来固定样本到台上（例如mounting wax, dental wax等等类似物）
货号 | 产品描述 | 规格 |
MC3 | Micropol™ 精密机械研磨抛光机 | 台 |
