常用于SEM和SPM,当铝和碳材料有干扰时选择硅片做基底。
硅片的一些参数如下,大硅片直径100mm,基片厚度525un:
l Orientation:<100>·
l Resistance: 1-30 Ohms
l Type: P (Boron)
l Wafer thickness: 18-21 mil (460-530µm)
l Roughness: 小于1nm, polished on one side
材料科学方面:当用FESEM研究纳米离子时,硅片具有玻璃盖玻片一样的光滑性能,而且具有高分辨率测试所需要的导电性。因为硅衬底有点导电,人们可以减少对金属涂层的需要(涂层有可能掩饰材料样本的特点)。
生物学方面:非常理想的衬底来生长细胞,表面光滑,完全等同玻璃盖玻片。由于是硅材料,人们不用担心样本受到玻璃的腐蚀,还有硅的惰性,完全可以高压灭菌。
货号 | 产品描述 | 规格 |
71893-09 | 预切单抛硅片,大小 3X3mm | 600片 |
71893-11 | 预切单抛硅片,大小5x5mm | 270 片 |
71893-12 | 预切单抛硅片,大小10X10mm | 55片 |

