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Omniprobe FIB Lift-Out TEM FIB原位提取载网(Omniprobe半分载网)/Lift-Out Grids

产品介绍

适用于聚焦离子束(FIB)原位提取与高分辨透射电镜(TEM)样品制备。

主要领域:半导体、材料科学、纳米技术、地质、生物等领域的纳米级样品制备与表征。
核心功能:支持在FIB-SEM系统中进行高精度原位lift-out操作,实现从块体样品到TEM薄片的无缝转移。

一、产品概述:

Omniprobe 公司专注于开发用于纳米尺度操作的精密工具,其FIB Lift-Out TEM 载网 是专为原位提取(in-situlift-out 设计的高性能样品支撑用品。该系列载网具有标准化几何结构、多点索引定位、优化的探针接触面及低轮廓设计,显著提升FIB操作效率与成功率。

所有产品均采用3mm 标准直径,兼容主流 TEM 样品杆;包装形式包括 塑料小瓶,确保洁净无污染。

二、参数说明:

1. Downset(下沉量):指支柱顶部相对于载网主平面的下沉深度(单位:微米)。数值越大,操作空间越充足;数值小(如5 µm)适用于浅层操作或特殊夹具。

2.“V”形对准面:提供自对中功能,便于OmniProbe微操作探针精准嵌入抓取。

3. 垂直杆附着面:用于与探针末端牢固连接,适合焊接或搬运。

4. 低轮廓/低侧边设计:降低载网边缘高度,避免FIB探针操作时发生遮挡或碰撞。

三、产品详情:

175964-0175964-02 铜或钼 Lift-Out 载网

定制的铜或钼 Lift-Out 载网专为原位(in-situ)lift-out 操作而设计。载网设有多个带索引的安装位置,同时配备垂直杆状和“V”形附着表面。直径为 3 mm。

275964-03定制铍制半环载网,直径 3 mm

375964-04,铜制五柱 Lift-Out 载网

专为原位(in-situlift-out 操作定制的铜制五柱载网。设有多个带索引的安装位置,全部配备垂直杆状附着表面。侧边采用更低轮廓设计,便于微操作探针接触最外侧的支柱。直径为 3 mm

475964-05OmniProbe 铜制四柱 Lift-Out 载网

专为原位(in-situlift-out 操作定制的四柱载网。设有多个带索引的安装位置,其中两个配备垂直杆状附着表面,另两个为“V”形对准表面。侧边采用低轮廓设计,便于微操作探针接触最外侧的支柱。直径为 3 mm

575964-06OmniProbe 钼制四柱 Lift-Out 载网

专为原位(in-situlift-out 操作定制的四柱载网。设有多个带索引的安装位置,其中两个配备垂直杆状附着表面,另两个为“V”形对准表面。侧边采用低轮廓设计,便于微操作探针接触最外侧的支柱。直径为 3 mm

675964-07 / 75964-08,三柱浅下沉载网

适用于对样品高度敏感的应用(如低温TEM、原位电学测试);

75964-07 强调 侧边可及性(Side Access),

75964-08 则优化了 中心柱宽度与连接面多样性。

775964-09,五柱铜质载网(增强型)

5根支柱为“E”形结构,可同时固定多个样品或作为参考标记;

下沉量仅5 µm,配合更低侧边,适合高密度布局或自动化流程。

875964-10,四柱铜质Lift-Out载网

l   4个独立铜支柱,提供优异机械稳定性;

l   2个垂直附着面 + 2“V”形对准面,兼顾抓取与焊接;

l   侧边低剖面,便于接触最外侧支柱;

l   支柱下沉量:5 µm(较浅,适合多数现代FIB系统);

l   标准3 mm直径,塑料小瓶包装,防氧化防尘。

四、操作简述(FIB Lift-Out 典型步骤)

l   载网安装:用OmniProbe探针夹持载网,利用“V”槽或垂直面精准定位至FIB样品台。

l   样品切割:FIB在目标区域切割出微米级薄片(lamella)。

l   拾取与焊接:探针拾取薄片,将其焊接到载网支柱上(常用PtC沉积固定)。

l   转移至TEM:完成制样后,整网取出,直接插入TEM观察。



五、材质选择建议

 

材质

优点

注意事项

铜(Copper

导电性好、成本低、通用性强

不适用于铜敏感体系(如某些催化剂)

钼(Molybdenum

高熔点、化学惰性、低污染

成本较高,适用于高温或高纯应用

铍(Beryllium

超轻、低电子散射(用于特殊TEM

无支柱,仅作半环支撑;有毒,需谨慎处理


订购信息及须知

货号

产品描述

规格

75964-01

FIB原位提取载网in-situlift-out grids铜,3柱,载网厚度30µm

100

75964-02

FIB原位提取载网in-situlift-out grids钼,3柱,载网厚度30um

25

75964-03

铍网,载网厚度25um,主要应用于离子刻蚀

1

75964-04

FIB原位提取载网in-situlift-out grids铜,5柱,载网厚度40µm

100

75964-05

FIB原位提取载网in-situlift-out grids铜,4柱,载网厚度30µm

100

75964-06

FIB原位提取载网in-situlift-out grids钼,4柱,载网厚度30µm

25枚

75964-07

FIB原位提取载网in-situlift-out grids铜,3柱,载网厚度30µm(矮肩)

100

75964-08

FIB原位提取载网in-situlift-out grids铜,3柱,载网厚度30µm

100

75964-09

FIB原位提取载网in-situlift-out grids铜,5柱,载网厚度35µm

100

75964-10

FIB原位提取载网in-situlift-out grids铜,4柱,载网厚度30µm

100


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