有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。
G-FLAT™氧化硅膜窗口（G-FLAT™ SiO X-Ray Window），适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310µm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。
LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320µm，200 MP 低应力无孔氮化硅。
产品信息：
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货号 |
产品描述 |
窗口(Sq.) |
膜厚 |
规格 |
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76042-10 |
G-FLAT™ SiO X-Ray Window |
500µm |
100nm |
10个/盒 |
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76042-11 |
G-FLAT™ SiO X-Ray Window |
500µm |
300nm |
10个/盒 |
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76042-12 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
500µm |
50nm |
10个/盒 |
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76042-13 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1000µm |
50nm |
10个/盒 |
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76042-14 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
500µm |
100nm |
10个/盒 |
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76042-15 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1000µm |
100nm |
10个/盒 |
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76042-16 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
1500µm |
200nm |
10个/盒 |
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76042-17 |
Silicon Nitride X-Ray Window |
2500µm |
200nm |
10个/盒 |
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