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网格畸变测试靶(Grids)

网格阵列位于50mm×50mm1.5mm厚度的玻璃基底上(玻璃基底上真空溅射低反射率的铬制成),100µm250µm500µm1000µm2000µm网格间距,25×25阵列。

网格分布用于决定成像系统的畸变。理想情况下,网格的水平和竖直线是垂直的,畸变图像会在线上显示扭曲,这种图像可以用于修正畸变。

 

订购信息:

货号

产品描述

规格

R1

Grids with line pitch of 2000微米,间距2000微米

R2

Grids with line pitch of 1000微米,间距1000微米

R3

Grids with line pitch of 500微米

R4

Grids with line pitch of 250微米

R10

Grids with line pitch of 100微米

 

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